主诉 病史

主诉：右下后牙根管治疗后1月要求修复。 现病史：患者右下后牙因“牙髓炎”于我院行根管治疗后1个月，患牙无疼痛、咬物不适，现要求修复。 既往史：否认系统病史及药物过敏史。

查体 辅查

检查：#46颊he面见白色暂封物，近中、颊侧、舌侧部分轴壁缺损，见少量牙体组织；叩（-），松（-）。#46#47近中倾斜，#36 he面见银汞充填物，多个后牙见窝沟龋，未探及敏感。反he，咬合接触不良。 X线检查：#46已行RCT，根充严密，恰充。根尖无阴影。

诊断 处理

诊断：#46牙体缺损 治疗计划：#46金属桩核+烤瓷全冠修复。 第一次试戴冠时，烤瓷冠远中边缘嵴明显高出he平面，咬合时未能形成良好的尖窝接触状态，多个牙无接触。遂重新牙体预备，进一步预备he面及远中边缘嵴，为烤瓷冠修复提供足够空间；排龈，取模，咬关系，灌注石膏模型，送加工厂重新制作烤瓷冠。第二次试戴正常，予以粘接。

随访 讨论

患者在第一次试戴冠时，试戴烤瓷冠时发现全冠远中边缘嵴明显高于he平面，与邻牙形成台阶，存在咬合高点。由于患牙修复前咬合接触不良，呈现反he,如果单纯调磨咬合高点，患牙与邻牙边缘嵴间的台阶无法消除，下颌he曲线恢复不良。正常he的Spee曲线能保持在咀嚼过程中及下颌前伸运动中多个牙与牙之间紧密接触; 与上颌的纵he曲线协调起到提高咀嚼效率的生物机械学功能。但是如果只考虑降低患牙远中边缘嵴，获得正常的Spee曲线，患牙可能会和对颌无法形成大面积的接触。然而患牙与邻牙间台阶的出现还可能会引起食物嵌塞，造成he干扰等。经综合考虑，决定重新预备牙体，为烤瓷冠预留空间，降低远中边缘嵴，从而获取良好的he曲线，解决he干扰和食物嵌塞等问题。